Este trabalho propõe uma nova rota de produção de filmes nanoestruturados de Dióxido de Titânio (TiO2) através da corrosão de filmes de titânio metálico em plasmas ricos em oxigênio. Para deposição dos filmes de titânio (Ti) utilizou-se da técnica de magnetron sputtering e, para o processo de corrosão e formação das nanoestruturas de TiO2, utilizou-se a técnica de Reactive Ion Etching com atmosfera rica em oxigênio em misturas com gases corrosivos. Por se tratar de um trabalho exploratório com foco no processo de corrosão, escolheu-se utilizar uma única condição para a deposição dos filmes de Ti, e diferentes condições de corrosão para a formação da camada de TiO2, variando a pressão, a composição assim como a potência da descarga durante este último processo. Os filmes produzidos foram então caracterizados pelas técnicas de Perfilometria, Microscopia Eletrônica de Varredura, Difração de Raio-X, Espectroscopia de Espalhamento Raman, Elipsometria Espectroscópica, Microscopia de Força Atômica e Espectroscopia de Fotoelétrons Excitados por Raio-X. Os resultados mostram a obtenção de camadas de TiO2 compostas por uma nanoestrutura foliar regular e homogênea com elevada área de superfície e alta rugosidade superficial. As caracterizações evidenciam ainda que o TiO2 obtido é majoritariamente amorfo, com pequenas frações cristalizadas apresentando propriedades compatíveis com as fases anatase e brookita.